Intel será el primer cliente del sistema TwinScan EXE:5200 de ASML
ASML entregará su primera máquina de producción de alta NA-EUV a Intel, revolucionando la litografía y elevando la tecnología de fabricación de semiconductores.
ASML está a punto de hacer un hito en la producción de chips al entregar la primera máquina de producción de alta NA-EUV (Apertura Numérica Alta) en los próximos meses. Esta entrega se anticipa para antes de 2025, como ha confirmado el CEO de ASML, Christophe Fouquet.
El primer cliente en recibir el sistema TwinScan EXE:5200 será Intel, marcando un paso significativo en la colaboración a largo plazo entre ambas compañías. Este sistema representa un avance en la tecnología de litografía con su apertura numérica de 0.55 y una productividad superior a 200 obleas por hora, lo que mejora notablemente la precisión en comparación con las máquinas EUV anteriores, que operaban con lentes de 0.33.
Intel ha expresado su intención de utilizar esta innovadora tecnología High-NA para llevar a cabo innovaciones en transistores de próxima generación, con planes de introducir un proceso de manufactura basado en High-NA, denominado 14A, previsto para 2026. La máquina se entregará a la planta de Intel en Oregon, donde se desarrolla la mayor parte de su trabajo de investigación y desarrollo.
La plataforma EXE es un avance evolutivo en la tecnología EUV, incorporando un diseño óptico innovador y etapas de retícula y oblea significativamente más rápidas. La combinación del aumento en la apertura numérica y la longitud de onda utilizada permitirá la fabricación de estructuras de transistor aún más pequeñas, marcando un nuevo estándar en la industria de semiconductores.